Корпорация Toshiba Electronic Devices & Storage сегодня объявила о строительстве нового завода по производству 300-миллиметровых пластин для силовых полупроводников на своей основной производственной базе дискретных полупроводников Kaga Toshiba Electronics Corporation. Строительство будет проходить в два этапа, что позволит оптимизировать темпы инвестиций в соответствии с рыночными тенденциями, а начало производства запланировано на 2024 финансовый год. Когда первый этап выйдет на полную мощность, мощность производства силовых полупроводников Toshiba увеличится в 2,5 раза.

Новый завод будет иметь структуру, поглощающую землетрясения, усовершенствованные системы ППГ, включая двойные линии электроснабжения и новейшее энергосберегающее производственное оборудование для снижения нагрузки. Он также будет направлен на достижение цели «RE100» по 100% зависимости от возобновляемых источников энергии. Качество продукции и эффективность производства будут улучшены за счет внедрения искусственного интеллекта и автоматизированных систем транспортировки пластин.