TSMC сегодня представила процесс N4P, усовершенствование 5-нанометровой технологической платформы, ориентированное на производительность. N4P присоединяется к самому передовому и обширному портфелю передовых технологических процессов в отрасли. Благодаря N5, N4, N3 и последнему добавлению N4P у клиентов TSMC будет множество убедительных вариантов выбора мощности, производительности, площади и стоимости для своих продуктов.

Будучи третьим крупным усовершенствованием 5-нм семейства TSMC, N4P обеспечит повышение производительности на 11% по сравнению с исходной технологией N5 и на 6% по сравнению с N4. N4P также обеспечит повышение энергоэффективности на 22%, а также увеличение плотности транзисторов на 6%. Кроме того, N4P снижает сложность процесса и сокращает время цикла пластины за счет уменьшения количества масок. N4P демонстрирует стремление TSMC и инвестиции в постоянное совершенствование производственных технологий.