Компания SK Hynix стала первым производителем в индустрии, интегрировавшим в свои мощности литографическое оборудование ASML High-NA EUV, оставив позади таких гигантов, как TSMC и Samsung. Южнокорейский производитель памяти, давно укрепивший позиции на рынке DRAM за счёт полного цикла решений и стратегического партнёрства с NVIDIA, установил систему в своём заводе M16 в Ичхоне. В официальном блоге компания подчеркнула, что этот шаг откроет путь к разработке передовых продуктов и укреплению технологического лидерства. Речь идёт о TWINSCAN EXE:5200B — первой установке High-NA EUV, готовой к серийному производству. Она позволяет создавать транзисторы в 1,7 раза меньше и достигать плотности в 2,9 раза выше, чем в существующих EUV-системах, за счёт увеличения числовой апертуры с 0,33 до 0,55 — это прирост на 40%.

Благодаря внедрению нового оборудования SK Hynix намерена упростить текущие EUV-процессы и ускорить разработку следующего поколения памяти, улучшив показатели производительности и себестоимости. Кроме того, компания планирует расширить присутствие в сегменте высокомаржинальной памяти и ещё сильнее закрепить лидерство на рынке. Ранее сообщалось, что SK Hynix активно движется к использованию шести EUV-слоёв в DRAM. Тогда аналитики отмечали, что именно High-NA EUV станет ключевым фактором для преодоления «слоевого порога». Теперь, когда компания получила доступ к передовым установкам ASML, ей ничего не мешает выпускать передовую память.